Описание
Мыльная основа «Актив» не содержит лаурилсульфат натрия (SLS – sodium lauryl sulfate). Его используют в промышленности как смачивающее и чистящее средство и часто добавляют в шампуни, зубные пасты, разнообразную косметическую продукцию для образования пены. Минус этого вещества – возможность негативного воздействия на кожу. Данный ингредиент ее сушит, а также может вызывать аллергические реакции.
В Activ SLS Free используется максимально безопасная альтернатива – лауретсульфат натрия (SLES – sodium laureth sulfate). Он не раздражает так сильно кожу и позволяет бережно удалять загрязнения. Состав превосходно принимает масла и может быть окрашен в необходимый цвет.
Состав:
- пропиленгликоль косметический,
- cорбитол,
- вода тонкой очистки,
- cтеарат натрия,
- лауретсульфат натрия,
- лаурат натрия,
- глицерин растительный
Условия хранения: в сухом темном месте, при температуре не выше +35С и относительной влажности воздуха не более 50%.
Продукция ТМ Activ пользуется заслуженной популярностью. Компания разрабатывает рецептуры и изготавливает глицериновую основу уже многие годы. Выбирая этот материал для работы, можно не сомневаться в его безупречном качестве и безопасности. Заказать мыльную основу Activ SLS Free можно уже сейчас. Просто выберите товар, поместите его в «Корзину» и заполните заявку.
- Не сушит кожу.
- Не усыхает и не теряет вес и объем.
- После застывания остается сухой и приятной, бархатистой на ощупь.
- При застывании образует гладкую глянцевую поверхность без морщин.
- Прекрасная мылкость. Основа дает нежную, обильную и бархатистую пену.
- Идеальный баланс между твердостью и пластичностью в застывшем состоянии.
- До застывания выпускает большую часть пузырей, попавших при перемешивании.
- Время застывания среднее, что позволяет успеть воплотить в жизнь даже самую сложную задумку.
Состав: Aqua, Glycerin, Propylene Glycol, Sodium Stearate, Sodium Laurate, Sodium Laureth Sulfate, Sorbitol, Sodium Coco-Sulfate, Sodium Chloride, Lauric Acid, Stearic Acid, Tetrasodium EDTA.
Отзывы
Отзывов пока нет.